Η Genesis® αποτελεί υλικό βάσης για την ανάπτυξη ρητινών. Η σύστασή της μπορεί να βοηθήσει στην ανάπτυξη νέων UV φωτοπολυμεριζόμενων ρητινών για 3D εκτυπωτές.

Η Genesis® δεν μπορεί να εκτυπωθεί ως έχει αλλά μπορεί να αναμιχθεί με διάφορες στερεές πούδρες για την δημιουργία μιας νέας ρητίνης. Αποτελεί δηλαδή ένα ξεκίνημα για την έρευνα και ανάπτυξη ρητινών που περιέχουν στερεές ουσίες.

Οι εφαρμογές για την ανάπτυξη νέων ρητινών είναι πολλές και μπορούν να χρησιμοποιηθούν σε πολλούς βιομηχανικούς τομείς, όπως η αυτοκινητοβιομηχανία, η οδοντιατρική, η αργυροχρυσοχοία κτλ.

Γενικές Συμβουλές

Η Genesis σχεδιάστηκε για πειραματική χρήση. Χρησιμοποιήστε αυτές τις οδηγίες σαν παράδειγμα. Η έρευνα εκτός αυτών των ορίων επίσης προτείνεται. Βασιστείτε στην δική σας κρίση όταν αναμιγνύετε τις πούδρες. Η εταιρεία μας δεν προσφέρει ακριβής οδηγίες χρήσης αφού αυτές εξατώνται από τον τύπο των υλικών που αναμιγνύονται.

Για να διαπιστώσετε το υψηλότερο δυνατό φορτίο στερεών σωματιδίων, αναμίξτε μια μικρή ποσότητα ρητίνης μέχρι το σημείο κορεσμού. Για το σκοπό αυτό, στην αρχή προτείνονται μικρές δοκιμές. Μη χρησιμοποιήτε εκτυπωτές με μηχανισμό απόξεσης στρωμάτων μέχρι να καθορίσετε το μέγιστο φορτίο στερεών σωματιδίων.

Για την σκλήρυνση των εκτυπωμένων αντικειμένων χρησιμοποιήστε συσκευή υπεριώδους ακτινοβολίας για τουλάχιστον μια ώρα. Επιλέξτε μεγάλους χρόνους έκθεσης εαν πρόκειται να αφαιρέσετε την Genesis από τα εκτυπωμένα αντικείμενα μέσω θερμικής επεξεργασίας. Επίσης, περισσότερος χρόνος σκλήρυνσης με UV ακτινοβολία παράγει καλύτερα αντικείμενα μετά απο την θερμική επεξεργασία. Σε αυτό το στάδιο επιλέξτε χρόνο ίσο με αυτόν της εκτύπωσης και φροντίζετε να περιστρέφετε τα αντικείμενα σε τακτά διαστήματα.

Ο χρόνος και το πρόγραμμα της καύσης εξαρτώνται από τη θερμοκρασία υαλοποίησης του υλικού που αναμείχθηκε με την Genesis. Για την αποφυγή ρωγμών προτείνεται μικρός αριθμός μεταβολής της θερμοκρασίας μέχρι το όριο των 650 C.